洁美科技：柔创纳米将围绕选择性原子层沉积与刻蚀技术开发

金融界5月6日消息，有投资者在互动平台向洁美科技提问：你好，公司参股11%的子公司柔创纳米已成功开发并实现销售的ALD包覆设备，实现了我国在该领域的突破，是继美国之后世界第二家实现该技术产业化的国家。根据其子公司武汉柔电官网，目前其ALD设备主要应用在锂离子电池负极材料或者隔膜材料的改性上，未来该产品是否会寻求在半导体制程方面突破？

公司回答表示：柔创纳米现阶段仍然以ALD在硅碳负极和固态电池材料领域为突破口，未来将会围绕选择性原子层沉积与刻蚀技术与装备进行开发，有望应用在半导体方面。

本文源自：金融界